Beschreibung: | 5615125 (2259) Deutschland, Hohenstein-Ernstthal, 21.08.2008: Roth & Rau AG, Produktion von Siliumnitrid-Beschichtungsanlagen im Werk Wüstenbrand. Mittels plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD, Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) abgeschiedene Siliziumnitridschichten haben sich als Standard für die Antireflexbeschichtung und Passivierung kristalliner Silizium-Solarzellen etabliert., [KEYSTONE DIENSTBILD. Nutzung nur mit Genehmigung und gegen Honorar, Beleg, Namensnennung und zu unseren AGB. Nur zur redaktionellen Verwendung. Honorare an: KEYSTONE Pressedienst, www.keypix.de]s03638, color, 21. Jahrhundert, Innenaufnahme, Wirtschaft, Produktion, Wirtschaftsreportage, Roth & Rau AG, Roth und Rau, Roth, Rau, Werk, Werkshalle, Produktionshalle,, Anlagen, Anlagenbau, Maschinen, Maschinenbau, Photovoltaikindustrie, Industrieanlage, Industrieanlagen, Photovoltaik, Mitarbeiter, Arbeiter , Siliziumnitrid-Beschichtungsanlagen, Siliziumnitrid-Beschichtungsanlage, Siliziumnitridbeschichtungsanlage, Siliziumnitridbeschichtungsanlagen, Beschichtungsanlagen, Anlagenbau, PECVD-Anlagen, PECVD-Anlage, Plasmaunterstützte, chemische Gasphasenabscheidung, Gasphasenabscheidung, plasma, deposition, vapour deposition, vapour, chemical, enhanced |